一种精细金属掩膜板、掩膜装置及张网设备
授权
摘要
本实用新型提供一种精细金属掩膜板、掩膜装置及张网设备，所述精细金属掩膜板包括掩膜条本体，所述掩膜条本体为长条状，包括相对的两个长边和相对的两个短边；及，设置在每一所述短边上，沿该短边延伸方向、依次间隔排列的至少三个裙边。本实用新型提供的精细金属掩膜板、掩膜装置及张网设备，能够减少掩膜板张网工艺中的褶皱及下垂量，提高张网精度。
基本信息
专利标题 ：
一种精细金属掩膜板、掩膜装置及张网设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921843623.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-30
授权号 ：
CN211036074U
授权日 ：
2020-07-17
发明人 ：
蔡建畅薛龙辉张微肖星亮
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
许静
优先权 ：
CN201921843623.X
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-07-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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