一种精密金属掩膜板
授权
摘要
本实用新型涉及金属掩膜板技术领域，特别涉及一种精密金属掩膜板，包括掩膜框，掩膜框的一侧面上依次叠放有两个以上的支撑条、两个以上的遮挡条和两个以上的掩膜条，相邻两个支撑条之间设有间距且相互平行，相邻两个遮挡条之间放置有一个掩膜条且相邻两个遮挡条之间相互平行，遮挡条和掩膜条均与支撑条垂直设置，支撑条和遮挡条均与掩膜框滑动连接，掩膜框的一侧面向内凹陷形成有供支撑条滑动的第一条形沟槽和供遮挡条滑动的第二条形沟槽，这样在返工或不同产品制作时支撑条和遮挡条可重复利用，不会造成材料浪费；可根据产品设计进行调整，灵活变换数量及位置以适应产品，具有积极的应用价值，可为后续金属掩膜板制作提供技术参考。
基本信息
专利标题 ：
一种精密金属掩膜板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021947053.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-08
授权号 ：
CN213803954U
授权日 ：
2021-07-27
发明人 ：
林少钦
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州市博深专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
柯玉珊
优先权 ：
CN202021947053.1
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24 C23C14/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2021-07-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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