确定器件制造工艺的控制参数的方法
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摘要

本文中公开了一种用于确定制造工艺的一个或多个控制参数的方法,该制造工艺包括光刻工艺和一个或多个另外的工艺,该方法包括:获取衬底的至少一部分的图像,其中该图像包括通过制造工艺而被制造在衬底上的至少一个特征;取决于从图像确定的轮廓,计算一个或多个图像相关度量,其中图像相关度量中的一项是至少一个特征的边缘位置误差EPE;以及取决于边缘位置误差,确定光刻工艺和/或一个或多个另外的工艺的一个或多个控制参数,其中至少一个控制参数被确定以便最小化至少一个特征的边缘位置误差。

基本信息
专利标题 :
确定器件制造工艺的控制参数的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111149063A
申请号 :
CN201880062857.2
公开(公告)日 :
2020-05-12
申请日 :
2018-08-22
授权号 :
CN111149063B
授权日 :
2022-04-22
发明人 :
W·T·特尔M·J·马斯洛K·范因根·舍瑙P·沃纳尔A·斯拉克特R·阿努西亚多S·H·C·范戈尔普F·斯塔尔斯M·乔彻姆森
申请人 :
ASML荷兰有限公司
申请人地址 :
荷兰维德霍温
代理机构 :
北京市金杜律师事务所
代理人 :
董莘
优先权 :
CN201880062857.2
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
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IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-22 :
授权
2020-06-05 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20180822
2020-05-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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