用于低光和高光水平成像的单光学
授权
摘要
本公开涉及多个视图光学系统。示例性光学系统包括被配置为从场景接收入射光的至少一个主光学元件以及光学地耦合到至少一个主光学元件的多个中继镜。光学系统还包括光学地耦合到多个中继镜的透镜，以及被配置为接收来自透镜的聚焦光的图像传感器。图像传感器包括第一感光区域和第二感光区域。主光学元件、多个中继镜和透镜与入射光相互作用以形成第一聚焦光部分和第二聚焦光部分。第一聚焦光部分在第一感光区域上形成场景的第一图像部分，且第二聚焦光部分在第二感光区域上形成场景的第二图像部分。
基本信息
专利标题 ：
用于低光和高光水平成像的单光学
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111527744A
申请号 ：
CN201880084752.7
公开（公告）日 ：
2020-08-11
申请日 ：
2018-12-18
授权号 ：
CN111527744B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
B.赫马林
申请人 ：
伟摩有限责任公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
金玉洁
优先权 ：
CN201880084752.7
主分类号 ：
H04N5/355
IPC分类号 ：
H04N5/355 H04N5/225 H04N5/235
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2020-09-04 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H04N 5/355
申请日 : 20181218
申请日 : 20181218
2020-08-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
