结构光成像中去除背景光的方法
授权
摘要

本发明公开一种结构光成像中去除背景光的方法,包括:S1、前后两帧图像分别采用全局快门曝光方式、卷帘快门曝光方式对图像传感器的全部像素进行曝光,每个像素曝光后累积的结构光电荷与背景光电荷按照电荷类别及先后时序分别单独存储于同一存储单元内;S2、读出电路按照时序分别逐行读取位于存储单元内每个像素的结构光电荷所对应的结构光电压及每个像素的背景光电荷所对应的背景光电压;S3、读出电路将读取的每个像素的结构光电压与背景光电压相减,以去除背景光。本发明通过共用存储单元的方式实现两帧相减的效果,不会增加存储单元的数量,过多占用像素的面积,无需缩小感光单元的尺寸,避免对像素的性能产生不利影响。

基本信息
专利标题 :
结构光成像中去除背景光的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111526303A
申请号 :
CN202010363898.4
公开(公告)日 :
2020-08-11
申请日 :
2020-04-30
授权号 :
CN111526303B
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
马成王欣洋李扬贾恩·柏加兹
申请人 :
长春长光辰芯光电技术有限公司
申请人地址 :
吉林省长春市经济开发区营口路77号
代理机构 :
长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
高一明
优先权 :
CN202010363898.4
主分类号 :
H04N5/355
IPC分类号 :
H04N5/355  H04N5/359  H04N5/378  
法律状态
2022-05-24 :
授权
2020-09-04 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H04N 5/355
申请日 : 20200430
2020-08-11 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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