一种并行光学相干层析成像设备自动对焦系统和方法
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摘要

本发明提供一种并行光学相干层析成像设备自动对焦系统和方法,包括有光源产生光;将光分解为采样光和参考光,采样光照射待测样品后返回第一回光,参考光照射参考镜面后返回第二回光;将第一回光和第二回光合束成第一合成光,检测获得第一合成光的光学相干层析信号强度峰值;将参考镜面共轭至待测样品表面作为参考成像面;将样品臂焦平面定位在参考成像面上,根据光学相干层析信号强度峰值确定样品臂焦平面,完成自动对焦。本发明基于并行光学相干层析成像设备本身作为多通道的弱相位时域光学干涉系统,利用系统本身的自检测量能力,无需额外对焦模块,以微米以下的重复精度实现显微物镜的焦面、参考臂镜面同时对准折射材料下表面的快速对焦过程。

基本信息
专利标题 :
一种并行光学相干层析成像设备自动对焦系统和方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110132897A
申请号 :
CN201910411934.7
公开(公告)日 :
2019-08-16
申请日 :
2019-05-17
授权号 :
CN110132897B
授权日 :
2022-04-22
发明人 :
王金玉汪岳峰尹韶云杜凯李刚
申请人 :
中国科学院重庆绿色智能技术研究院;威高集团有限公司
申请人地址 :
重庆市北碚区方正大道266号
代理机构 :
上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人 :
尹丽云
优先权 :
CN201910411934.7
主分类号 :
G01N21/45
IPC分类号 :
G01N21/45  G01N21/01  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/41
折射率;影响相位的性质,例如光程长度
G01N21/45
利用干涉量度法,利用纹影方法
法律状态
2022-04-22 :
授权
2019-09-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/45
申请日 : 20190517
2019-08-16 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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