具备光取向膜的基板的制造方法
授权
摘要
本发明提供一种一边抑制制造效率的降低一边增大折射率各向异性的具备光取向膜的基板的制造方法。本发明的具备光取向膜的基板的制造方法包括：步骤(A)，在基板的表面上形成光取向膜材料的膜，所述光取向膜材料包括含有光官能团的高分子；步骤(B)，偏振转换发光二极管灯的出射光而照射所述步骤(A)中所形成的所述膜；步骤(C)，偏振转换金属卤化物灯的出射光而照射所述步骤(B)中偏振光照射后的所述膜。
基本信息
专利标题 ：
具备光取向膜的基板的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110824780A
申请号 ：
CN201910703494.2
公开（公告）日 ：
2020-02-21
申请日 ：
2019-07-31
授权号 ：
CN110824780B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
谷池康司郎
申请人 ：
夏普株式会社
申请人地址 ：
日本国大阪府堺市堺区匠町1番地
代理机构 ：
深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司
代理人 ：
陈海云
优先权 ：
CN201910703494.2
主分类号 ：
G02F1/1337
IPC分类号 ：
G02F1/1337
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1337
液晶分子的表面诱导取向，例如借助列向层
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2020-03-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1337
申请日 : 20190731
申请日 : 20190731
2020-02-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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