制造择优<111>取向钨的方法
被视为撤回的申请
摘要
在1000-10000帕总压下，从含有六氟化钨和氢的气相中在基金属上进行反应沉积(低压化学汽相沉积法)以制备择优取向的W<111>的过程，其特点是：向惰性气中加入乙酰丙酮根合稀土金属水合物(raae earth metal acetyl acetonate hydrate)，并使之与反应性气体六氟化钨和氢一起通过基金属和正在生长的钨层表面。
基本信息
专利标题 ：
制造择优<111>取向钨的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85109258A
申请号 ：
CN85109258
公开（公告）日 ：
1986-06-10
申请日 ：
1985-12-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
乔治·加特纳彼得·贾尼尔
申请人 ：
菲利浦光灯制造公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬·格陵纽沃德路1号
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
刘元金
优先权 ：
CN85109258
主分类号 ：
C23C16/08
IPC分类号 ：
C23C16/08 C30B25/02 C22B5/16 C22B34/36
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/06
以金属材料的沉积为特征的
C23C16/08
自金属卤化物
法律状态
1990-07-11 ：
被视为撤回的申请
1988-01-13 ：
实质审查请求
1986-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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