光学元件表层缺陷快速探测和识别的检测装置和检测方法
授权
摘要
一种光学元件表层缺陷快速探测和识别装置和检测方法，该装置主要包括激光器、光束整形器、扩束器、反射镜、会聚透镜、样品、XY精密位移平台、变倍镜头、电动光路切换器、第一成像透镜、长波通滤光器、第一面阵光电探测器、准直器、可调谐滤波器、第二成像透镜、第二面阵光电探测器和计算机。本发明利用缺陷光致发光特性，对缺陷成像，实现快速探测；结合高光谱成像技术，根据缺陷的发光光谱峰值特征，对各类缺陷进行识别，并确定缺陷是何种缺陷。本发明设计的测量装置集快速探测和识别于一体，非常适用于大口径光学元件表层缺陷探测。
基本信息
专利标题 ：
光学元件表层缺陷快速探测和识别的检测装置和检测方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110687080A
申请号 ：
CN201910840235.4
公开（公告）日 ：
2020-01-14
申请日 ：
2019-09-06
授权号 ：
CN110687080B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
邵建达倪开灶刘世杰周游王圣浩徐天柱潘靖宇白云波
申请人 ：
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 ：
上海市嘉定区清河路390号
代理机构 ：
上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张宁展
优先权 ：
CN201910840235.4
主分类号 ：
G01N21/63
IPC分类号 ：
G01N21/63 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2020-02-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/63
申请日 : 20190906
申请日 : 20190906
2020-01-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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