操作极紫外光产生装置的方法及极紫外辐射产生装置
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摘要
一种操作极紫外光产生装置的方法及极紫外辐射产生装置。本揭露的一实施方式提供一种用于产生极紫外(EUV)辐射的源,此辐射源包括围绕低气压环境的腔室。进气口经配置以在腔室中提供清洗气体。将多个排气口提供至腔室,每个排气口具有对应闸阀,闸阀包括对应于将腔室与EUV扫描器分隔的排气口的扫描器闸阀。压力感测器设置在腔室内部并邻近于扫描器闸阀。控制器经配置以基于压力感测器的输出来控制除扫描器闸阀之外的闸阀。如此一来,用于产生极紫外(EUV)辐射的源将可具有较长的寿命。
基本信息
专利标题 :
操作极紫外光产生装置的方法及极紫外辐射产生装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110967937A
申请号 :
CN201910924598.6
公开(公告)日 :
2020-04-07
申请日 :
2019-09-27
授权号 :
CN110967937B
授权日 :
2022-05-27
发明人 :
陈思妤许哲彰杨基简上傑陈立锐郑博中
申请人 :
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
代理机构 :
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 :
徐金国
优先权 :
CN201910924598.6
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-27 :
授权
2020-05-01 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20190927
申请日 : 20190927
2020-04-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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