平面安检系统的扫描方法、安检系统及存储介质
授权
摘要

本申请适用于安检技术领域,提供了一种平面安检系统的扫描方法、安检系统及存储介质,所述安检系统包括:第一平面扫描开关阵列和第二平面扫描开关阵列,所述方法包括:通过所述安检系统中的第一平面扫描开关阵列对待测人体的正面进行从左方到右方的平面扫描或者从右方到左方的平面扫描,获得第一平面扫描信号;通过所述安检系统中的第二平面扫描开关阵列对待测人体的背面进行从上方到下方的平面扫描或者从下方到上方的平面扫描,获得第二平面扫描信号;根据获得的第一平面扫描信号和第二平面扫描信号获得扫描结果;通过本申请可以在不提高安检系统硬件成本的前提下降低安检仪的漏检率。

基本信息
专利标题 :
平面安检系统的扫描方法、安检系统及存储介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110989022A
申请号 :
CN201911134885.3
公开(公告)日 :
2020-04-10
申请日 :
2019-11-19
授权号 :
CN110989022B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
王俊龙安国雨田秀伟
申请人 :
中国电子科技集团公司第十三研究所
申请人地址 :
河北省石家庄市合作路113号
代理机构 :
石家庄国为知识产权事务所
代理人 :
付晓娣
优先权 :
CN201911134885.3
主分类号 :
G01V8/00
IPC分类号 :
G01V8/00  G01S7/02  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01V
地球物理;重力测量;物质或物体的探测;示踪物
G01V8/00
用光学装置勘探或探测
法律状态
2022-04-01 :
授权
2020-05-05 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01V 8/00
申请日 : 20191119
2020-04-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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