复合电极及其制备方法、量子点发光二极管
授权
摘要
本发明提供了一种复合电极,包括:相对设置的第一二氧化锡薄膜和第二二氧化锡薄膜,以及插层设置在所述第一二氧化锡薄膜和所述第二二氧化锡薄膜之间的碳负载碳化钼薄膜,其中,所述碳负载碳化钼薄膜包括碳化钼和用于负载所述碳化钼的碳基质。本发明提供的复合电极,以二氧化锡为表层材料,中间夹层薄膜材料兼具良好的导电性和机械延展性,赋予复合电极较高的载流子迁移率和柔韧性,而且不会产生金属元素的析出,具有较好的化学稳定性。
基本信息
专利标题 :
复合电极及其制备方法、量子点发光二极管
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113130809A
申请号 :
CN201911390352.1
公开(公告)日 :
2021-07-16
申请日 :
2019-12-30
授权号 :
CN113130809B
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
朱佩罗植天
申请人 :
TCL集团股份有限公司
申请人地址 :
广东省惠州市仲恺高新技术开发区十九号小区
代理机构 :
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 :
黄志云
优先权 :
CN201911390352.1
主分类号 :
H01L51/52
IPC分类号 :
H01L51/52 H01L51/50 H01L51/56
相关图片
法律状态
2022-06-07 :
授权
2022-05-27 :
著录事项变更
IPC(主分类) : H01L 51/52
变更事项 : 申请人
变更前 : TCL集团股份有限公司
变更后 : TCL科技集团股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 516006 广东省惠州市仲恺高新技术开发区十九号小区
变更后 : 516006 广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦
变更事项 : 申请人
变更前 : TCL集团股份有限公司
变更后 : TCL科技集团股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 516006 广东省惠州市仲恺高新技术开发区十九号小区
变更后 : 516006 广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦
2021-08-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 51/52
申请日 : 20191230
申请日 : 20191230
2021-07-16 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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