一种塑料背盖镀膜用生产线
授权
摘要
本实用新型公开了一种塑料背盖镀膜用生产线，包括上料区、镀膜区、下料区以及移动框架，镀膜区内设置有处理箱体和流转架，处理箱体和流转架内均设置有第一传动轨道，处理箱体和流转架平行设置，上料区和下料区内均设置有转载架，转载架将移动框架在处理箱体和流转架之间移动，处理箱体位于上料区一侧的内部设置有离子源并且外部设置有冷泵，冷泵与处理箱体内贯通连接，冷泵上设置有分子泵；转载架设置在转载底座上，转载底座与转载架之间设置有丝杆传动组件，转载架内设置有第二传动轨道。本实用新型能够实现低温镀膜工艺和保证后续镀膜的良率，并且具有流转功能，提高生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种塑料背盖镀膜用生产线
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920407101.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-03-28
授权号 ：
CN209702854U
授权日 ：
2019-11-29
发明人 ：
朱杰
申请人 ：
张家港市铭斯特光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市张家港市现代农业示范园区常南社区
代理机构 ：
苏州睿昊知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张燕清
优先权 ：
CN201920407101.9
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2019-11-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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