一种ARC镀膜生产线
授权
摘要
本实用新型提供了一种ARC镀膜生产线，包括呈直线依次连接的旋转台、进出口室、缓冲室、前过渡室、工艺室组、后过渡室和旋转室，工艺室组包括至少一个工艺室，进出口室、缓冲室、前过渡室、工艺室和后过渡室均沿着所述直线方向对称分隔成两个腔室，形成连通的U形通道，基于上述生产线的ARC镀膜生产工艺，包括两个依次进行、运行方向相反的流程，无需对基片镀过渡层。本实用新型的同一工艺室腔室内布置多个旋转阴极进行连续镀膜，无需过渡层；工艺室数量可根据具体需求增加或减少而不影响其它功能室的工作；折线形生产线使基片架上端磁连接、下端内凹的传动轮接力传送，对基片的传动平稳可靠。
基本信息
专利标题 ：
一种ARC镀膜生产线
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921910195.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-07
授权号 ：
CN211734461U
授权日 ：
2020-10-23
发明人 ：
黄乐黄国兴祝海生
申请人 ：
湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请人地址 ：
湖南省湘潭市九华经济区盛世路8号
代理机构 ：
上海精晟知识产权代理有限公司
代理人 ：
张超宇
优先权 ：
CN201921910195.8
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/56 C23C14/10 C23C14/06
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-10-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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