一种荧光高光谱测试系统
避免重复授权放弃专利权
摘要

本实用新型公开了一种荧光高光谱测试系统,本实用新型属于高光谱测试技术领域,涉及一种荧光高光谱测试系统。本实用新型的一种荧光高光谱测试系统,其光线依次通过第一聚焦透镜、光波导、激发滤光片组、导光管、第二聚焦透镜、反射镜、样品台、发射滤光片组,最后被高光谱相机捕捉,可为荧光高光谱成像提供较大面积的照射光斑,并使光线均匀的照射在样品上,增加成像效果,且避免了入射光直接照射样品带来损坏的问题,且光路互不影响,提高了检测的准确性;还可快速完成氙灯光源和卤素光源的切换,提高了工作效率。

基本信息
专利标题 :
一种荧光高光谱测试系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920437645.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-02
授权号 :
CN209605943U
授权日 :
2019-11-08
发明人 :
陈兴海王金龙黄宇黄智辉刘业林于金科
申请人 :
四川双利合谱科技有限公司
申请人地址 :
四川省成都市经济技术开发区(龙泉驿区)成龙大道二段1118号2栋26层5号
代理机构 :
成都弘毅天承知识产权代理有限公司
代理人 :
邹敏菲
优先权 :
CN201920437645.X
主分类号 :
G01J3/44
IPC分类号 :
G01J3/44  G01J3/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分,偏振、相位或脉冲特性的测量;比色法;辐射高温测定法
G01J3/00
光谱测定法;分光光度测定法;单色器;测定颜色
G01J3/28
光谱测试
G01J3/44
喇曼光谱法;散射光谱法
法律状态
2022-03-08 :
避免重复授权放弃专利权
避免重复授予专利权IPC(主分类) : G01J 3/44
申请日 : 20190402
授权公告日 : 20191108
放弃生效日 : 20220308
2021-09-24 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : G01J 3/44
变更事项 : 专利权人
变更前 : 四川双利合谱科技有限公司
变更后 : 江苏双利合谱科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 610010 四川省成都市经济技术开发区(龙泉驿区)成龙大道二段1118号2栋26层5号
变更后 : 214023 江苏省无锡市梁溪区南湖大道飞宏路58-1-108
2019-11-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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