一种IC半导体行业用除硼超纯水系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种IC半导体行业用除硼超纯水系统，采用原水加热板式热换器，保证冬天时水温不低于10℃，以提高水质；采用两套并联的除硼树脂混床，一备一用，能够随时切换，提高稳定性，进一步优化水质；设置多套UV杀菌器，能够有效脱除总有机碳TOC，并配置在线TOC测试仪。通过上述方式，本实用新型能够同时产出除硼超纯水和常规超纯水，且整个过程全部实现自动化控制，效率高，运行稳定可靠，水质纯净稳定，经济实用，操作简单，使用效果好。
基本信息
专利标题 ：
一种IC半导体行业用除硼超纯水系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920485948.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-11
授权号 ：
CN210885649U
授权日 ：
2020-06-30
发明人 ：
曹传兴吴国新
申请人 ：
江苏达诺尔科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市常熟经济开发区氟化学工业园
代理机构 ：
苏州诚逸知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
杨月芳
优先权 ：
CN201920485948.9
主分类号 ：
C02F9/08
IPC分类号 ：
C02F9/08 C02F101/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F9/00
水、废水或污水的多级处理
C02F9/08
至少有一个物理处理步骤
法律状态
2020-06-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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