成像薄膜
授权
摘要
本实用新型揭示一种成像薄膜,其包括微结构层和图案层;微结构层包括复数聚焦单元,所述聚焦单元包括排列设置的复数微结构;图案层包括复数图文单元,所述图文单元包括排列设置的复数微图文;其中,所述微结构层和图案层层叠设置且所述图案层位于所述微结构层的焦平面附近;其中,所述聚焦单元与所述图文单元相适配,所述复数微结构与所述复数微图文一一对应设置,且所述微结构的中心垂直对应所述微图文的点设定为对应点,则同一排或同一列中,对应点不等分设置,形成放大倍率存在不同的放大图像,且图像不会畸变。
基本信息
专利标题 :
成像薄膜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920543343.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-19
授权号 :
CN209928150U
授权日 :
2020-01-10
发明人 :
郑伟伟张海英申溯
申请人 :
昇印光电(昆山)股份有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市玉山镇元丰路33号2号房
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201920543343.0
主分类号 :
G02B30/26
IPC分类号 :
G02B30/26
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B30/26
自动立体型
法律状态
2020-01-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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