用于成像系统的薄膜晶体管
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种环形薄膜晶体管60，包括：布置在半导体材料层66之上的环形源电极62；在环形源电极62内布置在半导体材料层66之上的漏电极64；以及位于漏电极64和环形源电极64之间的有源沟道76，其中有源沟道76的一个表面包括暴露的半导体材料。而且，一种蛇形薄膜晶体管78，包括：布置在半导体材料层82之上的蛇形源电极80；布置在半导体材料层82上和基本位于由蛇形源电极80形成的凹槽之中的漏电极84，其中漏电极84基本符合该凹槽；以及位于漏电极84和蛇形源电极80之间的有源沟道98，其中有源沟道98具有基本恒定的长度，其中有源沟道98的一个表面包括暴露的半导体材料。
基本信息
专利标题 ：
用于成像系统的薄膜晶体管
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1795824A
申请号 ：
CN200510133887.2
公开（公告）日 ：
2006-07-05
申请日 ：
2005-12-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
D·阿尔巴格利W·A·亨尼西A·J·库图尔C·科拉佐－达维拉
申请人 ：
通用电气公司
申请人地址 ：
美国纽约州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
刘红
优先权 ：
CN200510133887.2
主分类号 ：
A61B6/00
IPC分类号 ：
A61B6/00 G01N23/04 G01T1/00 H01L29/786
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61B
诊断；外科；鉴定
A61B6/00
用于放射诊断的仪器，如与放射治疗设备相结合的
法律状态
2010-07-14 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003236461
IPC(主分类) : A61B 6/00
专利申请号 : 2005101338872
公开日 : 20060705
号牌文件序号 : 101003236461
IPC(主分类) : A61B 6/00
专利申请号 : 2005101338872
公开日 : 20060705
2008-02-20 ：
实质审查的生效
2006-07-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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