用于PCB电镀过程的铜球添加装置
授权
摘要

本实用新型涉及一种用于PCB电镀过程的铜球添加装置,包括箱体、进料单元和驱动单元,所述驱动单元包括电机、传动轮和被动轮,所述电机通过皮带带动传动轮运行,所述传动轮通过输送带带动被动轮同步运行,所述输送带上设有若干凹型块,该凹型块的一端连接于输送带上,所述进料单元能够将其内的铜球输送至箱体内部的输送带上的凹型块上,所述箱体设有顶面和底面,所述底面上均匀分别若干导球口,该导球口通过导球筒与其下方的钛篮相连通,当凹型块运行至导球口时,凹型块在其内铜球的作用下,其另一端与输送带脱离从而使得铜球落入空的导球筒。本实用新型可以自动完成铜球的添加工作,结构简单,具有广阔的应用前景。

基本信息
专利标题 :
用于PCB电镀过程的铜球添加装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920820654.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-03
授权号 :
CN210287575U
授权日 :
2020-04-10
发明人 :
史合臣黄冬生
申请人 :
昆山市华新电路板有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市千灯镇秦峰南路1618号20号房
代理机构 :
昆山中际国创知识产权代理有限公司
代理人 :
盛建德
优先权 :
CN201920820654.7
主分类号 :
C25D21/14
IPC分类号 :
C25D21/14  C25D17/00  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D21/00
电解镀覆用电解槽的维护或操作方法
C25D21/12
工艺控制或调节
C25D21/14
电解液组分的控制添加
法律状态
2020-04-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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