一种电镀线铜球添加防漏装置
授权
摘要
本实用新型涉及电镀线铜球添加领域,具体公开了一种电镀线铜球添加防漏装置,包括VCP加工线,所述VCP加工线的下端设置有铜球添加盒,所述铜球添加盒与VCP加工线之间连接有升降杆,且铜球添加盒的下端设置有料盒,所述料盒的下端安装有电镀槽,所述电镀槽与料盒之间设置有钛篮,所述钛篮的后端安装有钛篮把手。短飞檐挡板的高度没有长飞檐挡板的高度长,所有铜球不至于从料盒中飞出,避免铜球直接掉落电镀槽内部影响到电镀效果,竖向挡板将料盒分隔成一个个区间,从而方便了铜球的下落,避免过多铜球会挤压导致落料速度减缓,横向挡板的设置可以避免铜球从料盒的侧面滚落出掉落至电镀槽中。
基本信息
专利标题 :
一种电镀线铜球添加防漏装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922136827.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-03
授权号 :
CN211734523U
授权日 :
2020-10-23
发明人 :
李军张义坤李龙李雪雪
申请人 :
欣强电子(清远)有限公司
申请人地址 :
广东省清远市清远高新技术产业开发区银盏工业园嘉福工业区D区
代理机构 :
东莞卓为知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
齐海迪
优先权 :
CN201922136827.6
主分类号 :
C25D21/14
IPC分类号 :
C25D21/14
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D21/00
电解镀覆用电解槽的维护或操作方法
C25D21/12
工艺控制或调节
C25D21/14
电解液组分的控制添加
法律状态
2020-10-23 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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