单层电容器用无氰镀金设备
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本实用新型公开了一种单层电容器用无氰镀金设备,包括托盘,托盘上安装有主体、PH碱性添加桶、PH酸性添加桶、镀金液添加桶;主体的内腔通过工作台面分隔为上腔室和下腔室。通过PH探头、镀金液添加桶等结构,节省了分析人工、完全不需要分析用的原液及分析药品,极大提高了药液稳定性,降低了人力物力成本;通过氮气的保护,延迟镀液寿命数倍,大大降低镀金液使用成本;设计了可调节速率的阴极移动装置和可调节的变频过滤泵,可对不同产品进行对应调整,达到最佳镀金效果;在镀金液回收槽中增加加热器、比重探头,通过加热将金回收液进行浓缩,通过比重感应计算金含量,可随意对回收的镀金液浓度进行控制,以达到最大的金回收效率。

基本信息
专利标题 :
单层电容器用无氰镀金设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920832450.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-04
授权号 :
CN210001948U
授权日 :
2020-01-31
发明人 :
刘云志吴继伟杨国兴王迪郝泳鑫
申请人 :
大连达利凯普科技有限公司
申请人地址 :
辽宁省大连市经济技术开发区光明西街10号1-4层
代理机构 :
大连智高专利事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
刘文平
优先权 :
CN201920832450.5
主分类号 :
C25D7/00
IPC分类号 :
C25D7/00  C25D17/00  C25D21/14  C25D21/02  C25D21/06  H01G13/00  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D7/00
以施镀制品为特征的电镀
法律状态
2020-11-10 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : C25D 7/00
变更事项 : 专利权人
变更前 : 大连达利凯普科技有限公司
变更后 : 大连达利凯普科技股份公司
变更事项 : 地址
变更前 : 116630 辽宁省大连市经济技术开发区光明西街10号1-4层
变更后 : 116630 辽宁省大连市经济技术开发区光明西街10号1-4层
2020-01-31 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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