一种炉管及LPCVD设备
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本实用新型公开了一种炉管及LPCVD设备,属于太阳能电池生产技术领域。LPCVD设备包括炉管。该炉管包括管体,管体内设置有进气管,进气管包括炉尾进气管和若干炉口进气管,炉尾进气管从管体的炉尾延伸至管体的中部,炉口进气管从管体的炉口延伸至管体的中部。炉口进气管以管体的中心轴线为中心呈环形均匀分布,炉口进气管的长度依次递减,炉尾进气管与最短的炉口进气管靠近。炉口进气管设置有若干炉口出气孔,炉口出气孔包括叉设置的第一孔和第二孔,第一孔的孔径大于第二孔的孔径。炉尾进气管设有若干炉尾出气孔,炉尾出气孔的孔径沿着炉尾至炉口的方向依次减小。本实用新型使得气体均匀分布于管体内,大大改善硅片之间和片内薄膜沉积的均匀性。

基本信息
专利标题 :
一种炉管及LPCVD设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920843270.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-05
授权号 :
CN210163522U
授权日 :
2020-03-20
发明人 :
陈海燕李兵
申请人 :
苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市高新区鹿山路199号
代理机构 :
北京品源专利代理有限公司
代理人 :
胡彬
优先权 :
CN201920843270.7
主分类号 :
C23C16/455
IPC分类号 :
C23C16/455  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-02-26 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : C23C 16/455
变更事项 : 专利权人
变更前 : 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司
变更后 : 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 215129 江苏省苏州市高新区鹿山路199号
变更后 : 215129 江苏省苏州市高新区鹿山路199号
变更事项 : 专利权人
变更前 : 阿特斯阳光电力集团有限公司
变更后 : 阿特斯阳光电力集团股份有限公司
2020-03-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332