基于二维剪切干涉测量待测气体参数的装置
授权
摘要
本实用新型公开了基于二维剪切干涉测量待测气体参数的装置,包括:包括:激光光源、扩束镜、第一透镜、第二透镜、第一平面平晶、第二平面平晶、半反半透镜、采集模块和电脑处理终端;所述激光光源、扩束镜、第一透镜、半反半透镜和第一平面平晶通过光线连接,所述采集模块与所述电脑处理终端电连接,所述半反半透镜与第一平面平晶之间设有检测场。本实用新型通过水平和竖直两个维度进行检测,得到待测气体的折射率梯度、密度梯度、密度分布以及温度分布,适用性更强,提高检测准确性,大大降低了检测工序。
基本信息
专利标题 :
基于二维剪切干涉测量待测气体参数的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920867709.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-10
授权号 :
CN210376139U
授权日 :
2020-04-21
发明人 :
张新李飞龙孔嘉勇刘诗媚罗文华蔡静
申请人 :
佛山科学技术学院
申请人地址 :
广东省佛山市南海区狮山镇广云路33号
代理机构 :
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 :
谢泳祥
优先权 :
CN201920867709.X
主分类号 :
G01N21/45
IPC分类号 :
G01N21/45 G01N9/24 G01K11/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/41
折射率;影响相位的性质,例如光程长度
G01N21/45
利用干涉量度法,利用纹影方法
法律状态
2020-04-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN210376139U.PDF
PDF下载