一种生产一氧化硅的多反应器真空炉
授权
摘要
本实用新型提出的一种用于生产一氧化硅的多反应器真空炉，包括：炉体、多个加热反应器、收集器、抽真空装置，炉体一端设有第一炉盖，另一端设有第二炉盖，多个加热反应器紧密堆积并设置在炉体内，收集器设置在炉体内，每个加热反应器均与收集器连通，多个加热反应器和收集器共同形成一个密闭空间，抽真空装置设于炉体外，抽真空装置与炉体相连通。本实用新型中，通过在炉体内设置多个加热反应器，有利于提高生产效率，而且多个加热反应器共用一个收集器，有利于提高产物的收集效率，减少多个收集器的收集损耗。
基本信息
专利标题 ：
一种生产一氧化硅的多反应器真空炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921039392.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-04
授权号 ：
CN210464014U
授权日 ：
2020-05-05
发明人 ：
候闽渤
申请人 ：
广德特旺光电材料有限公司
申请人地址 ：
安徽省宣城市广德县新杭经济开发区广德特旺光电材料有限公司
代理机构 ：
合肥市长远专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黄乐瑜
优先权 ：
CN201921039392.7
主分类号 ：
F27B17/00
IPC分类号 ：
F27B17/00 C01B33/113
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F27
炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B17/00
不包含在F27B 1/00至F27B 15/00中任一组的炉
法律状态
2020-05-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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