本实用新型公开一种真空炉，包括炉体，还包括出料机构，所述出料机构包括收集组件、收集器，所述炉体包括反应室和收集室，所述收集室与反应室连通，且分别处于炉体的两端，反应室用于提供反应场所；所述出料机构的收集组件设于炉体的收集室内，用于收集并取出反应产物；所述出料机构的收集器与收集室的底部连通，且与收集组件的位置相对应，用于存放收集组件收集并取出的反应产物。本实用新型还公开一种包括上述真空炉的一氧化硅制备装置。本实用新型在反应结束后的高温状态下就可以立即将反应产物取出，并可避免接触空气，从而缩短生产周期和防止一氧化硅产物发生歧化反应。