TOPCon电池表面钝化设备

授权

摘要

本实用新型公开了一种TOPCon电池表面钝化设备，至少包括多功能PECVD，多功能PECVD对硅片的背面镀氧化硅膜、非晶硅层以及对非晶硅层的原位掺杂，对应的反应温度是400～600℃，所述多功能PECVD自带升降温功能或者位于多功能PECVD工序之后的退火炉将镀膜后的硅片加热至600℃以上，使非晶硅层转化为多晶硅层，然后降温至400～600℃。本实用新型利用多功能PECVD自带升降温功能或者多功能PECVD+退火炉升降温的工艺代替现有的LPCVD+清洗刻蚀的工艺，实现对硅片背面的单独沉积，多功能PECVD在沉积时不会对硅片的正面发生作用，解决了现有技术中对硅片正面的“先镀后洗再镀”的弊端，简化了现有工序步骤，省去清洗刻蚀工序，降低由此引起对硅片正面镀膜的不利影响。

基本信息

专利标题：

TOPCon电池表面钝化设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921049522.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-07-08

授权号：

CN210535682U

授权日：

2020-05-15

发明人：

吴晓松陈庆敏李建新李丙科

申请人：

无锡松煜科技有限公司

申请人地址：

江苏省无锡市新吴区硕放街道工业园区五期振发二路16号

代理机构：

江苏漫修律师事务所

代理人：

周晓东

优先权：

CN201921049522.5

主分类号：

H01L31/18

IPC分类号：

H01L31/18