激光辐射三倍率产生的装置
授权
摘要
本实用新型提出一种激光辐射三倍率产生的装置,包括:前部光学系统对输入的基波光束的光强分布进行调整,将入射基波光束转换为基波和二倍频谐波,所转换的二倍频谐波的横截面光强分布形状得到调整,调整后的基波和二倍频谐波光束出射至三倍频晶体;三倍频晶体的光束出射面切割为布鲁斯特角出射界面,将基波和二倍频谐波在三倍频晶体内发生和频转换,产生三倍频谐波光束,经过布鲁斯特角出射界面后出射,转换为所需要的、或与初始输入的基波光束的横截面光强分布形状基本相同的三倍频光束出射。本实用新型通过预先设置转换前的基波和二次谐波的光束强度分布形状实现腔外最终激光频率转换的光束质量要求,成本降低和转换晶体寿命延长,制作简单。
基本信息
专利标题 :
激光辐射三倍率产生的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921200394.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-26
授权号 :
CN210465939U
授权日 :
2020-05-05
发明人 :
周建平
申请人 :
南京钻石激光科技有限公司
申请人地址 :
江苏省南京市经济技术开发区恒发路28号04幢
代理机构 :
北京中企鸿阳知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
苏艳
优先权 :
CN201921200394.X
主分类号 :
G02F1/35
IPC分类号 :
G02F1/35 G02F1/355
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/19
•• G02F1/015至G02F1/167不包括的基于可变的反射或折射元件的
G02F1/35
非线性光学
法律状态
2020-05-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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