一种提高镀膜均匀性的镀膜治具
授权
摘要
本实用新型涉及3C镀膜技术领域，具体的讲是一种提高镀膜均匀性的镀膜治具，包括镀膜杆、夹具，镀膜杆的两端设有固定架杆，镀膜杆为矩形，矩形的四个侧面上均固定有若干组夹具限位杆组，每组夹具限位杆组由2个夹具限位杆组成，镀膜杆的限位杆穿过夹具的限位通孔将两者固定在一起形成镀膜治具，本实用新型的卡槽式装夹让产品固定变得简单方便，夹具采用3级自转四面体结构，产品与产品侧面呈现≥90°夹角，能够更好的让膜层附着到产品侧表面来确保正面和侧面膜层厚度接近，从而达到对产品侧面及正面圆弧的镀膜颜色均匀性有明显提高，满足客户对颜色值的要求。
基本信息
专利标题 ：
一种提高镀膜均匀性的镀膜治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921212613.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-30
授权号 ：
CN210657120U
授权日 ：
2020-06-02
发明人 ：
王婷高茂松
申请人 ：
纳峰真空镀膜（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市青浦区华纺路99弄99号2幢1层A区
代理机构 ：
北京连城创新知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘伍堂
优先权 ：
CN201921212613.6
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-06-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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