一种提高镀膜表面均匀性的镀膜治具
授权
摘要
本实用新型涉及镀膜治具技术领域，具体是涉及一种提高镀膜表面均匀性的镀膜治具。包括，镀膜箱；镀膜治具，固定安装在镀膜箱上，镀膜治具的固定端设置在镀膜箱的内部；镀膜治具包括；同步旋转驱动装置，固定安装在镀膜箱上，同步旋转驱动装置的输出端设置在镀膜治具内部；固定夹持装置，设有数个均匀分布在同步旋转驱动装置的输出端，固定夹持装置与同步旋转驱动装置的输出端固定连接。本申请可有效提高镀膜的均匀性，保证产品生产质量。
基本信息
专利标题 ：
一种提高镀膜表面均匀性的镀膜治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122101252.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-01
授权号 ：
CN216585187U
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
乔晓东
申请人 ：
浙江依缘纳米科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市嘉善县干窑镇庄驰中路38号2幢3楼
代理机构 ：
浙江永航联科专利代理有限公司
代理人 ：
刘静
优先权 ：
CN202122101252.1
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2022-05-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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