基于光场栅的位移测量装置
授权
摘要
本实用新型公开了基于光场栅的位移测量装置，包括测量系统、线性位移工作平台和光电探测器模块；测量系统包括系统光源、半透半反分光平面镜、两激光扩束准直器和两平面反射镜；第一平面反射镜能相对该整体摆动以能调节偏转角度，线性位移工作平台能相对该整体平移和旋转；系统光源发出的一束光入射到半透半反分光平面镜后被分为传播方向互相垂直且能量相等的两束相干光；两束相干光分别经第一激光扩束准直器与第二激光扩束准直器放大直径；通过第一平面反射镜和第二平面反射镜控制光路，使两束相干光都打在线性位移工作平台上表面以能产生两个椭圆光斑。该方法在保证高精度的同时，简化了测量系统的结构，减小了安装误差。
基本信息
专利标题 ：
基于光场栅的位移测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921300999.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-13
授权号 ：
CN210719020U
授权日 ：
2020-06-09
发明人 ：
程方叶瑞芳苏杭崔长彩余卿王寅
申请人 ：
华侨大学
申请人地址 ：
福建省泉州市丰泽区城东城华北路269号
代理机构 ：
厦门市首创君合专利事务所有限公司
代理人 ：
杨依展
优先权 ：
CN201921300999.6
主分类号 ：
G01B11/02
IPC分类号 ：
G01B11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
法律状态
2020-06-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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