一种X射线小角散射与X射线成像联用的光学系统
授权
摘要
本实用新型提供一种X射线小角散射与X射线成像联用的光学系统，包括：真空腔；布置于真空腔内的束流阻挡器，包括：依次叠置的二极管、闪烁体、第一透镜组和反射棱镜；布置于真空腔外的X射线小角散射探测器；沿与X射线入射方向垂直的方向安装的X射线成像机构，包括：第二透镜组和X射线成像探测器，以及一维调焦电机；以及计算机；其中，X射线照射到样品，发生小角散射后的X射线通过X射线小角散射探测器采集，穿过样品的直通X射线经过束流阻挡器转换为可见光并被90度折射后在X射线成像探测器上成像，从而实现X射线小角散射和X射线成像的同时测量。根据本实用新型，提供了一种可实现对X射线小角散射和X射线成像同时检测的光学系统。
基本信息
专利标题 ：
一种X射线小角散射与X射线成像联用的光学系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921460117.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-02
授权号 ：
CN210690452U
授权日 ：
2020-06-05
发明人 ：
边风刚洪春霞周平王玉柱
申请人 ：
中国科学院上海应用物理研究所
申请人地址 ：
上海市嘉定区嘉罗公路2019号
代理机构 ：
上海智信专利代理有限公司
代理人 ：
余永莉
优先权 ：
CN201921460117.2
主分类号 ：
G01N23/201
IPC分类号 ：
G01N23/201 G01N23/20 G01N23/04 G01N23/20008 G03B42/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/20
利用材料辐射的衍射，例如，用于测试晶体结构；利用材料辐射的散射，例如测试非晶材料；利用材料辐射的反射
G01N23/201
测量小角散射，例如小角X射线散射
法律状态
2020-06-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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