一种脉冲激光沉积镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开一种脉冲激光沉积镀膜装置，包括真空镀膜室、脉冲激光器、电子源、旋转靶座和可加热旋转的基片架，所述旋转靶座、电子源和基片架设于真空镀膜室中，所述旋转靶座周向环绕分布有六种不同的靶材，所述基片架夹设有基片，所述旋转靶座与基片架横向相对设置，并且所述旋转靶座的中心线与基片架的中心线相互叠合，所述电子源为两个，两个电子源分设于基片架的两侧，所述真空镀膜室周向设有多个透光窗，所述脉冲激光器发出的激光束穿过透光窗射入靶材上。本实用新型能调整激光束射入靶材的角度，方便研究制备高端薄膜，且能使薄膜更加致密，提高镀膜质量，有效提高镀膜的沉积效率，方便制备多种材料的多层薄膜。
基本信息
专利标题 ：
一种脉冲激光沉积镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921523393.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-12
授权号 ：
CN210711715U
授权日 ：
2020-06-09
发明人 ：
王燕丽
申请人 ：
东莞市鑫钛极真空科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市中堂镇三涌村鸭片塘
代理机构 ：
东莞众业知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
何恒韬
优先权 ：
CN201921523393.9
主分类号 ：
C23C14/28
IPC分类号 ：
C23C14/28
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
法律状态
2020-06-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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