一种真空卷绕镀膜原膜预处理装置
授权
摘要
本实用新型提供一种真空卷绕镀膜原膜预处理装置，它包括真空室和设置在真空室内的收卷机和放卷机，所述收卷机上和所述放卷机上均设置有用于制备金属化薄膜的基膜，在所述基膜的两侧分别设置有正极板和负极板，所述正极板和所述负极板分别连接在直流高频电源的两电极上。该装置能保证金属与基膜的充分接触与结合，并最大限度减少镀层金属孔隙率，从而能有效解决蒸镀时由于基膜自身表面粗糙度不均匀、单峰大高差以及表面浸润性低而导致的不能满足蒸镀时的金属化工艺要求和电容器卷绕芯子的技术要求的缺陷。
基本信息
专利标题 ：
一种真空卷绕镀膜原膜预处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921605472.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-25
授权号 ：
CN210826320U
授权日 ：
2020-06-23
发明人 ：
王军友陈鸿杰杨晓磊
申请人 ：
郑州华晶新能源科技有限公司
申请人地址 ：
河南省郑州市高新技术产业开发区长椿路23号23号楼1栋
代理机构 ：
郑州德勤知识产权代理有限公司
代理人 ：
苏志洋
优先权 ：
CN201921605472.4
主分类号 ：
C23C14/02
IPC分类号 ：
C23C14/02 C23C14/24 C23C14/56 C23C14/20 H01G4/005 H01G4/33 H01G13/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/02
待镀材料的预处理
法律状态
2020-06-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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