本发明公开了一种带撕膜覆膜装置的真空卷绕镀膜设备，包括真空容器和放卷系统、镀膜辊及收卷系统，基材经过镀膜辊后复卷到收卷系统，镀膜辊的外圆周侧部设磁控靶，保护膜从放卷系统上输出后与基材分离，在镀膜辊的输出端设有覆膜卷，保护膜覆在基材表面复卷至收卷系统。一种镀膜方法，包括：通过真空抽气系统和真空测量系统使真空容器内部满足真空条件；放卷系统传送带保护膜的基材缠绕在镀膜辊前，先将保护膜撕除卷绕在撕膜卷上；镀膜辊外圆周处设磁控靶对镀膜辊表面的基材进行镀膜；基材表面贴覆保护膜后复卷在收卷系统上。本发明可对带保护膜的薄膜基材进行撕膜镀膜，镀膜完后再贴覆保护膜进行收卷，实现单面镀膜和双面镀膜的功能。