用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统
授权
摘要
本实用新型提供了一种用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统，包括：探测器和高速可见光相机；其中，所述探测器包括：探测器腔体；小孔，设于所述探测器腔体的第一端部；薄膜，设于所述小孔上；微通道板MCP，被置于所述探测器腔体内，并且面对所述小孔；荧光屏，被置于所述探测器腔体内，并且面对所述微通道板MCP；成像时，软X射线穿透所述小孔，透过所述薄膜，照射在所述微通道板MCP上，软X射线经过所述微通道板MCP后到达所述荧光屏上，所述荧光屏上的可见光射出所述探测器腔体，而后聚焦到所述高速可见光相机上。本实用新型提高了X射线探测成像的速度，并且可获得软X射线的辐射剖面和温度信息。
基本信息
专利标题 ：
用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921649266.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-30
授权号 ：
CN210864056U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
张森兰涛毛文哲
申请人 ：
中国科学技术大学
申请人地址 ：
安徽省合肥市包河区金寨路96号
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
汤宝平
优先权 ：
CN201921649266.3
主分类号 ：
G01T1/29
IPC分类号 ：
G01T1/29 G01T1/34 G01K11/20 G21B1/23
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T1/175
电源电路
G01T1/29
对辐射束流的测量，例如，测量射束位置或截面；辐射的空间分布的测量
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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