用于X射线荧光仪的制样装置
授权
摘要
本实用新型涉及X射线荧光仪辅助设备技术领域，公开了一种用于X射线荧光仪的制样装置，包括底座、制样内杯、制样外杯和检测薄膜，所述底座设有第一凹槽，所述制样外杯插设于所述第一凹槽内；所述第一凹槽的底部还安装有加热组件；所述制样外杯套设于所述制样内杯外；所述检测薄膜的中部封盖于所述制样内杯的下端面，所述检测薄膜的边缘部分夹设于所述制样内杯和所述制样外杯之间。该用于X射线荧光仪的制样装置结构简单，使用方便，操作过程简单，省时省力，可以保持检测薄膜的平整度，还可以保持样品的湿度适宜，尤其适用于野外制样。
基本信息
专利标题 ：
用于X射线荧光仪的制样装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921551222.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-17
授权号 ：
CN211014071U
授权日 ：
2020-07-14
发明人 ：
李芳陆安祥韩平
申请人 ：
北京农业质量标准与检测技术研究中心
申请人地址 ：
北京市海淀区曙光花园中路9号北京市农林科学院质标中心
代理机构 ：
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 ：
麻雪梅
优先权 ：
CN201921551222.7
主分类号 ：
G01N23/2202
IPC分类号 ：
G01N23/2202
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/2202
样品制备
法律状态
2020-07-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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