一种可避免断柱造成损伤的真空镀膜治具
授权
摘要
本实用新型公开了一种可避免断柱造成损伤的真空镀膜治具，包括输出箱、输出接头、穿杆、侧把、治具提示机构、按钮、平台、物件体、垫圈、施压杆、气缸、复合台、角板和滑杆，该可避免断柱造成损伤的真空镀膜治具通过在平台底端设置治具提示机构，控制气缸底端侧的施压杆伸出，施压杆底端的垫圈贴合物件物件体上表面，将物件体紧固于平台上，同时，平台受力向下运动，平台通过穿杆将中转台向下推动，折叠杆受中转台作用内收，铰合杆带动滑块在滑口上滑动配合，左侧触头底端侧的核心触头与定触点接触，警报器警报提醒到达限位位置，控制气缸关闭即可，合理调节把控固定力的大小，使得使用者在固定到位后及时得到信息关闭，确保物件固定到位。
基本信息
专利标题 ：
一种可避免断柱造成损伤的真空镀膜治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921680649.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-09
授权号 ：
CN211036086U
授权日 ：
2020-07-17
发明人 ：
涂小林彭学实李健
申请人 ：
赫得纳米科技重庆有限公司
申请人地址 ：
重庆市璧山区青杠街道五显村
代理机构 ：
重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
林慰敏
优先权 ：
CN201921680649.7
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-07-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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