一种真空镀膜用治具
授权
摘要
本实用新型涉及真空镀膜领域，具体涉及一种真空镀膜用治具，包括驱动架以及转动安装在所述驱动架中间位置处的驱动轴，所述驱动架与驱动轴之间固设有第一轴承，所述驱动架、驱动轴均与外部动机机构传动连接，所述驱动架上设有两个平行分布的工件承载盘，其中一个所述工件承载盘与所述驱动架固定连接；设置相对密集分布的工件安装孔，能够最大化的利用工件承载盘上的空间，以使在单位面积内安装更多的工件，并留有足够的空隙，以保证镀层的均匀，通过设置两组平行分布的工件承载盘，并在工件承载盘之间设置密封保护套，其中密封保护套的长度可以根据工件的长度以及非镀层区域进行调整，因此整个治具的尺寸更加灵活，适应性强。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜用治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022072440.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-21
授权号 ：
CN215103508U
授权日 ：
2021-12-10
发明人 ：
苏文校
申请人 ：
东莞市优上纳米科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市长安镇上沙社区华强路6号A栋三楼
代理机构 ：
广东有知猫知识产权代理有限公司
代理人 ：
李志海
优先权 ：
CN202022072440.1
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-12-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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