兼容式半导体晶圆浸泡片盒装置
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摘要

本实用新型涉及一种兼容式半导体晶圆浸泡片盒装置,左、右片盒槽及晶圆后挡柱的下端分别安装于片盒下盖上,上端分别与片盒连接块相连,大、小尺寸的晶圆由左、右片盒槽的一侧放入,晶圆后挡柱位于左、右片盒槽的另一侧;左、右片盒槽的结构相同,沿高度方向分别设置多个大尺寸晶圆槽及多个小尺寸晶圆槽,左片盒槽上的大、小尺寸晶圆槽与右片盒槽上的大、小尺寸晶圆槽数量相同、一一对应;晶圆后挡柱上设有凸起,大尺寸晶圆的左右两侧分别放入左、右片盒槽上的大尺寸晶圆槽内,并与晶圆后挡柱抵接定位,小尺寸晶圆的左右两侧分别放入左、右片盒槽上的小尺寸晶圆槽内,并与凸起抵接定位。本实用新型结构简单、节省空间、易于安装、成本低。

基本信息
专利标题 :
兼容式半导体晶圆浸泡片盒装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921738965.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-16
授权号 :
CN210296325U
授权日 :
2020-04-10
发明人 :
戴红峰王一刘迟
申请人 :
沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请人地址 :
辽宁省沈阳市浑南区飞云路16号
代理机构 :
沈阳科苑专利商标代理有限公司
代理人 :
白振宇
优先权 :
CN201921738965.5
主分类号 :
H01L21/673
IPC分类号 :
H01L21/673  H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/673
使用专用的载体的
法律状态
2020-04-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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