本实用新型涉及碳化硅单晶生长炉领域，特别是涉及一种用于碳化硅炉自动调节温场梯度的装置。包括反应腔室，反应腔室外部设有加热单元，反应腔室内设有热场；还包括温度测量单元、加热单元提升系统和可编程逻辑控制器；加热单元包含感应线圈与电源，感应线圈设于反应腔室外部，加热单元提升系统与感应线圈和可编程逻辑控制器相连，用于带动感应线圈沿反应腔室外壁的竖向运动；温度测量单元包括多个光学温度测量传感器，对称设于反应腔室的顶部和底部并与可编程逻辑控制器相连。本实用新型可以按照工艺设定要求，自动调整电源输出功率和线圈位置，达到热场顶部温控和纵向温度梯度控制，避免因人为误操作引起风险，同时节省人工成本。