一种晶体生长动态温场调节装置，包括炉体、加热感应圈、坩埚和籽晶提拉杆，顶部连接单晶提拉机构，还包括：保温罩，立放于炉体上方，底部与炉体形成生长腔，其上设置有将生长腔连通至外部的炉孔和贯通孔，炉孔提供籽晶提拉杆垂直活动空间；环形反射器，设于生长腔内与单晶同轴且位于单晶溶液上3‑20mm，用于控制单晶与单晶溶液接触面的温度梯度；随动杆，下端通过贯通孔，后连接环形反射器，上端连接随动机构，随动机构被配置为控制环形反射器在单晶溶液上的高度。本发明的突出优势在于可在现有的生长炉上进行升级改造，改造难度和成本低，通过预设程序控制环形反射器在单晶溶液上的高度即可达到保证单晶外形规整和内部质量的显著技术效果。