晶体生长装置
授权
摘要

本实用新型提供了一种晶体生长装置,涉及晶体培养设备技术领域,包括上保温筒和下保温筒,下保温筒用于容置坩埚,上保温筒用于形成晶体的生长空间,晶体生长装置还包括:第一加热装置和第二加热装置;第一加热装置设置于下保温筒上,第一加热装置用于对下保温筒内放置的坩埚进行加热,以对坩埚内的原料进行加热;第二加热装置设置于上保温筒内,第二加热装置用于对晶体进行加热。通过第一加热装置控制原料的温度,通过第二加热装置控制晶体的温度,从而可以满足镥铝石榴石系列晶体的各个生长阶段对晶体与熔体之间不同的温度梯度的要求,使得本实用新型提供的晶体生长装置可以生产出镥铝石榴石系列晶体。

基本信息
专利标题 :
晶体生长装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921488642.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-06
授权号 :
CN210420255U
授权日 :
2020-04-28
发明人 :
付秀梅周世斌赖维明
申请人 :
成都东骏激光股份有限公司
申请人地址 :
四川省成都市蒲江县鹤山镇工业开发区
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
王闯
优先权 :
CN201921488642.5
主分类号 :
C30B29/28
IPC分类号 :
C30B29/28  C30B35/00  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/10
无机化合物或组合物
C30B29/16
氧化物
C30B29/22
复合氧化物
C30B29/28
分子式为A3Me5O12的,其中A为稀土金属,Me为Fe、Ga、Sc、Cr、Co或Al,例如石榴石
法律状态
2020-04-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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