一种晶体生长设备及晶体生长方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种晶体生长设备及晶体生长方法,该晶体生长设备包括机架,机架上设置有生长炉,生长炉的内部形成有用于营造晶体生长环境的加热区,生长炉上开设有出料口,机架上滑移设置有坩埚,坩埚呈长管状,且坩埚呈倾斜或水平设置,坩埚的开口朝向生长炉且与出料口插接滑移配合,且坩埚的滑移方向与自身长度方向平行,机架上设置有用于驱动坩埚滑移的驱动组件。该晶体生长方法包括以下步骤:将生长超长晶体的原料混合后倒入坩埚中;移动导料板,将坩埚移入加热区内;加热区将原料融化成液体,然后利用导料板将坩埚慢慢移出加热区,液体冷却凝固,形成晶体。本申请有助于改善超大晶体在生长过程中坩埚变形及漏液的情况。
基本信息
专利标题 :
一种晶体生长设备及晶体生长方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114457413A
申请号 :
CN202111673957.9
公开(公告)日 :
2022-05-10
申请日 :
2021-12-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
杨建春
申请人 :
上海翌波光电科技有限公司
申请人地址 :
上海市嘉定区马陆镇博学路1288号1幢1层A区
代理机构 :
北京维正专利代理有限公司
代理人 :
齐记
优先权 :
CN202111673957.9
主分类号 :
C30B15/06
IPC分类号 :
C30B15/06 C30B15/10 C30B15/20 C30B28/10
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长,例如Czochralski法
C30B15/06
非垂直提拉
法律状态
2022-05-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 15/06
申请日 : 20211231
申请日 : 20211231
2022-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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