锑化铟晶体生长方法及晶体生长炉
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种锑化铟晶体生长方法及晶体生长炉,其可降低锑化铟晶体应力,该方法基于晶体生长炉实现,晶体生长炉包括炉体、设置于炉体内的坩埚、位于坩埚上方的热屏,坩埚内盛装有锑化铟多晶原料,热屏内部设置有电磁感应加热线圈,电磁感应加热线圈套装于锑化铟晶体的外周且与锑化铟晶体的局部间隔对应;使用晶体生长炉并基于切克劳斯基法进行锑化铟晶体生长,锑化铟晶体生长时依次穿过热屏的屏口、电磁感应加热线圈,通过电磁感应加热线圈对锑化铟晶体进行周期性加热。

基本信息
专利标题 :
锑化铟晶体生长方法及晶体生长炉
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114318510A
申请号 :
CN202111656465.9
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
程鹏程波陈元瑞
申请人 :
无锡晶名光电科技有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市新吴区长江南路35-322号
代理机构 :
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
郭慧
优先权 :
CN202111656465.9
主分类号 :
C30B15/20
IPC分类号 :
C30B15/20  C30B29/40  C30B28/10  C30B33/02  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长,例如Czochralski法
C30B15/20
控制或调节
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 15/20
申请日 : 20211230
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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