锑化铟霍尔元件
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种锑化铟霍尔元件,主要由镍锌材料基板、二氧化硅绝缘层、“十”字形锑化铟感知膜和金电极组成,“十”字形锑化铟感知膜上覆盖有“十”字形液体树脂保护膜,“十”字形液体树脂保护膜图形尺寸稍小于“十”字形锑化铟感知膜图形尺寸,以便于“十”字形锑化铟感知膜的四端露出于“十”字形液体树脂保护膜之外与金电极相接。由于“十”字形锑化铟感知膜表面加上一层“十”字形PIX保护膜,对“十”字形锑化铟感知膜表面起到保护作用,这样“十”字形锑化铟感知膜就不易损坏,保证霍尔元件稳定的特性;又加PIX保护膜的方法与加锑化铟感知膜类似,因此简单易行,不需另行增加生产设备,成本较低。

基本信息
专利标题 :
锑化铟霍尔元件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720036481.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-03-26
授权号 :
CN201017910Y
授权日 :
2008-02-06
发明人 :
西垣诚
申请人 :
昆山尼赛拉电子器材有限公司
申请人地址 :
215325江苏省昆山市周庄镇大桥路388号
代理机构 :
昆山四方专利事务所
代理人 :
盛建德
优先权 :
CN200720036481.7
主分类号 :
H01L43/06
IPC分类号 :
H01L43/06  H01L43/04  G01R33/07  
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法律状态
2011-06-01 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101075695524
IPC(主分类) : H01L 43/06
专利号 : ZL2007200364817
申请日 : 20070326
授权公告日 : 20080206
终止日期 : 20100326
2008-02-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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