一种能增强开断能力的真空灭弧室纵磁触头结构

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摘要

本实用新型公开了一种能增强开断能力的真空灭弧室纵磁触头结构。包括触头杯（1），触头杯（1）开口端连接有触头片（2）；触头杯（1）杯壁上沿周向分布有斜槽（3），斜槽（3）贯通开口端在开口端端面上形成槽口（4），槽口（4）与触头杯（1）的内杯壁（5）相切，触头杯（1）杯壁上相邻两斜槽（3）间切割得到的部分构成线圈（8）；所述的触头片（2）边缘沿周向分布有纵磁槽（6），纵磁槽（6）能够与所述槽口（4）轴向对齐，纵磁槽（6）一端贯通触头片（2）边缘。本实用新型能够在保持短路电流开断能力不变的情况下，实现低电阻目的，同时有利于小型化设计。

基本信息

专利标题：

一种能增强开断能力的真空灭弧室纵磁触头结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921956974.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-13

授权号：

CN210467691U

授权日：

2020-05-05

发明人：

张毅陈志会欧阳广龙顾斌

申请人：

中国振华电子集团宇光电工有限公司（国营第七七一厂）

申请人地址：

贵州省贵阳市乌当区新添大道北段272号

代理机构：

北京联创佳为专利事务所(普通合伙)

代理人：

韩炜

优先权：

CN201921956974.1

主分类号：

H01H33/664

IPC分类号：

H01H33/664