一种机械式自定位样品托
授权
摘要
本实用新型公开了一种机械式自定位样品托，包括样品盘、基片储备盘、基片架、基片及压紧机构，所述基片固定设置在基片架上，所述样品盘上设有定位架，所述基片架通过压紧机构设置在基片储备盘上，所述基片架的上设有销孔，所述基片架端部设有圆柱体托，并通过销轴与销孔的配合实现基片架与圆柱体托的铰链，使圆柱体托与基片架之间能发生相对转动，从而实现基片架与定位架的配合安装；本实用新型的有益效果：在圆柱体托和基片架之间设有柔性部件，使得圆柱体托和基片架之间可以发生相对转动，使得安装过程更加快捷高效。
基本信息
专利标题 ：
一种机械式自定位样品托
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922160699.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-05
授权号 ：
CN211005592U
授权日 ：
2020-07-14
发明人 ：
马毅黄先伟宋宇轩俞越翎谢续友吴伊帆张泰华
申请人 ：
浙江工业大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市下城区朝晖六区
代理机构 ：
杭州浙科专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
周红芳
优先权 ：
CN201922160699.9
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-07-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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