一种真空室门装置运动机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空室门装置运动机构，包括真空室门装置，真空室门装置的顶端设有门悬挂装置，真空室门装置的背侧设有真空室，真空室门装置的顶端设有横梁，横梁是由两H型钢组成，横梁的前侧设有纵向运动电机，横梁内部设有空腔，空腔内设有链条链轮传动结构，门悬挂装置顶端设在链条链轮传动结构上，门悬挂装置包括旋转气缸、丝杠以及丝母，旋转气缸设在门悬挂装置的背侧，旋转气缸的输出端设有丝杠，丝杆上套设有丝母，丝母上设有连接装置，连接装置与链轮链条传动结构相连。提高了真空室及其门的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种真空室门装置运动机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922269913.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-17
授权号 ：
CN211921685U
授权日 ：
2020-11-13
发明人 ：
郭锦龙程云立马华武金魁付久龙
申请人 ：
长钛工程技术研究院（北京）有限公司
申请人地址 ：
北京市石景山区石景山路54号院6号楼6层601-9
代理机构 ：
北京知汇林知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨华
优先权 ：
CN201922269913.4
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-11-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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