一种改善均匀性的扩散炉进气装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种改善均匀性的扩散炉进气装置。它包括有相互连接的炉外管道和炉内管道，两者为任意形状轮廓的管状物，炉内管道包括有至少两根等间距分隔排布的喷气管和连接管，炉外管道与连接管连接，连接管与每根喷气管连通，所述喷气管的端部为密封设置，喷气管的管体上均匀设有若干个排气孔，各个排气孔的孔径相同。本实用新型整体设置在扩散炉的顶部且水平分布，炉外管道与连接管连接，连接管与每根喷气管连通，因此炉外管道内的气体可以均匀的分配给每根喷气管，然后从排气孔排出，这样排出的气体覆盖面积较大，扩散炉内的气体均匀性较好，保证了大尺寸硅片扩散后的磷化均匀性。
基本信息
专利标题 ：
一种改善均匀性的扩散炉进气装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922373418.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-25
授权号 ：
CN211256156U
授权日 ：
2020-08-14
发明人 ：
刘丹丹林纲正陈刚
申请人 ：
浙江爱旭太阳能科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省金华市义乌市苏溪镇好派路655号
代理机构 ：
金华智芽专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈迪
优先权 ：
CN201922373418.8
主分类号 ：
C30B31/16
IPC分类号 ：
C30B31/16
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B31/00
单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之扩散或掺杂工艺；其所用装置
C30B31/06
同气态扩散材料接触的
C30B31/16
气体供给或排出的装置；气流的变换
法律状态
2020-08-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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