阵列基板、显示设备和制造阵列基板的方法
授权
摘要
提供了一种阵列基板。阵列基板包括：具有第一子像素阵列的显示区域；和具有第二子像素阵列的部分透明区域。部分透明区域包括被实质上透明的非发光区域彼此间隔开的多个发光区域。第二子像素阵列限于多个发光区域中。阵列基板还包括位于实质上透明的非发光区域中的多个光传感器和多个第一薄膜晶体管。多个光传感器中的对应一个包括第一极性半导体层、第二极性半导体层和将第一极性半导体层与第二极性半导体层连接的本征半导体层。
基本信息
专利标题 ：
阵列基板、显示设备和制造阵列基板的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110678983A
申请号 ：
CN201980001398.1
公开（公告）日 ：
2020-01-10
申请日 ：
2019-08-20
授权号 ：
CN110678983B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
班圣光曹占锋王珂刘清召董水浪
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
柴亮
优先权 ：
CN201980001398.1
主分类号 ：
H01L27/12
IPC分类号 ：
H01L27/12 H01L27/32 H01L21/77 G02F1/136 G02F1/1368 G06K9/00
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2020-02-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/12
申请日 : 20190820
申请日 : 20190820
2020-01-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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